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建高远与浙江大学科创中心签订光刻设备技术合作协议
2024年1月23日上午,建高远与浙江大学杭州国际科创中心以及浙江大学
昆山创新中心在杭州签订“光刻设备技术合作”三方协议,开启光刻设备领
域校企合作新篇章,此次合作强强联合,产学研深度融合优势互补,促进核
心研发技术商业转化,共同将中国光刻事业发展推上新的高度。
正值隆冬时节,室外寒气袭人,但在极端光学国家重点实验室的大厅里,
大家热情洋溢,出席本次签约仪式的有浙江大学昆山创新中心何嘉欣及团队
、浙江大学杭州国际科创中心匡翠方教授及团队、苏州建高远微电子设备科
技有限公司总经理刘保华先生及团队。
签约会上建高远总经理刘保华先生全面介绍了公司业务及相关产品,秉
承国产替代、技术领先、服务至上的价值理念,与现场专家教授及团队热诚
互动分享。
建高远微电子是国内唯一一家全方位布局“柔性双面无缝光刻设备”的公
司,集聚核心技术、行业资源的沉淀,十年磨一剑,信念如磐,厚积薄发后发
制人,不断开拓创新砥砺前行,现已强势进入IC半导体品牌梯队。
浙江大学光电学院教授、杭州科创中心极端光学重点实验室副主任匡翠方
教授及其团队曾主持或参与基金委重大仪器专项基金、科技部原“973”项
目、科技部重大仪器研发项目;浙江省杰出青年基金,浙江151人才基金、自
然基金重点项目、面上、青年等国内外研究项目10多项,2020年主持浙江省之
江实验室重大光刻装置项目。以第一发明人申请发明专利90多项,已授权50多
项。获得2019年国家科学技术发明奖二等奖;2019年度王大珩光学奖-中青年
科技人员光学奖,2018年首届中国光学科技奖评选应用成果类一等奖等。
共同致力于国产光刻事业使命和愿景成为校企建立长期战略合作伙伴关系
的重要基石,祝贺三方达成一致意愿并签订合作协议,为客户提供差异化的更
高价值服务,携合作发展之手,创互利共赢之路,此次合作达成将是建高远事
业迈向更高层次的重要里程碑,也将为国产光刻技术的进步增加一股新的有生
力量。
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